一、2KG真空懸浮熔煉爐鈦合制備爐設(shè)備用途

2KG真空懸浮熔煉爐鈦合制備爐是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉。配有真空泵系統(tǒng)，用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量，使爐罐內(nèi)有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后，通入惰性氣體至微負壓或者真空環(huán)境，熔煉工藝啟動。

真空懸浮熔煉爐鈦合金熔煉爐產(chǎn)品特點

1·可在多種氣氛條件下熔煉

2·升溫迅速，幾分鐘內(nèi)即可達到所需要的熔煉溫度

3·坩堝非接觸，對熔煉材料無污染

4·懸浮熔煉在懸浮磁力和渦流攪拌的雙重作用下，熔煉后合金成分均勻

5·因熔煉溫度高，雜質(zhì)材料高溫揮發(fā)，熔煉后樣品純度高

6·可采用鍋底成型和旋轉(zhuǎn)澆鑄還可采用底注的形式，滿足不同鑄造需求

產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域：

1·材料科研工作

2·活潑金屬、難熔金屬、稀貴金屬及合金的制備

3·用于純度要求特別高的金屬和合金的制備

4·用于成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5·對材料純度、成分精度性和均勻性要求高，期望排除雜質(zhì)和其他

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：160Kw IGBT電源

2、容量（以Fe計）：2Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸：D90*90 可非標定制

6.控制方式：plc+觸摸屏

一、設(shè)備用途

是在真空條件下或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理。利用電磁力使爐料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使爐料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉。配有真空泵系統(tǒng)，用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量，使爐罐內(nèi)有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后，通入惰性氣體至微負壓或者真空環(huán)境，熔煉工藝啟動。

產(chǎn)品特點

1·可在多種氣氛條件下熔煉

2·升溫迅速，幾分鐘內(nèi)即可達到所需要的熔煉溫度

3·坩堝非接觸，對熔煉材料無污染

4·懸浮熔煉在懸浮磁力和渦流攪拌的雙重作用下，熔煉后合金成分均勻

5·因熔煉溫度高，雜質(zhì)材料高溫揮發(fā)，熔煉后樣品純度高

6·可采用鍋底成型和旋轉(zhuǎn)澆鑄還可采用底注的形式，滿足不同鑄造需求

產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域：

1·材料科研工作

2·活潑金屬、難熔金屬、稀貴金屬及合金的制備

3·用于純度要求特別高的金屬和合金的制備

4·用于成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5·對材料純度、成分精度性和均勻性要求高，期望排除雜質(zhì)和其他

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：160Kw IGBT電源

2、容量（以Fe計）：2Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸：D90*90 可非標定制

6.控制方式：plc+觸摸屏